Projekta Nr.EN ISO 7599:2010
NosaukumsDiese Internationale Norm legt eine Methode zur Spezifizierung dekorativer und schützender anodisch erzeugter Oxidschichten auf Aluminium (einschließlich der Legierungen auf Grundlage von Aluminium) fest. Sie definiert die charakteristischen Eigenschaften anodisch erzeugter Oxidschichten, gibt Verfahren zur Überprüfung der charakteristischen Eigenschaften an, legt Mindestleistungsanforderungen fest, stellt Informationen zur Güte des zum Anodisieren geeigneten Aluminiums bereit und geht auf die Bedeutung einer Vorbehandlung zur Sicherstellung des geforderten Aussehens bzw. der Struktur des fertigen Werkstücks ein. Sie gilt nicht für: a) porenfreie Oxidschichten, die als Sperrschicht wirken; b) Oxidschichten, die durch Anodisieren mit Chrom- oder Phosphorsäure erzeugt wurden; c) Oxidschichten, die lediglich dazu vorgesehen sind, das Grundmetall für die nachfolgende Aufbringung organischer Schichten oder die elektrolytische Abscheidung von Metallen vorzubereiten; d) hartanodisierte Schichten, die überwiegend für technische Zwecke verwendet werden, für die Abrieb und Verschleißfestigkeit die primären Eigenschaften sind (siehe ISO 10074).
Reģistrācijas numurs (WIID)31663
Darbības sfēraDiese Internationale Norm legt eine Methode zur Spezifizierung dekorativer und schützender anodisch erzeugter Oxidschichten auf Aluminium (einschließlich der Legierungen auf Grundlage von Aluminium) fest. Sie definiert die charakteristischen Eigenschaften anodisch erzeugter Oxidschichten, gibt Verfahren zur Überprüfung der charakteristischen Eigenschaften an, legt Mindestleistungsanforderungen fest, stellt Informationen zur Güte des zum Anodisieren geeigneten Aluminiums bereit und geht auf die Bedeutung einer Vorbehandlung zur Sicherstellung des geforderten Aussehens bzw. der Struktur des fertigen Werkstücks ein. Sie gilt nicht für: a) porenfreie Oxidschichten, die als Sperrschicht wirken; b) Oxidschichten, die durch Anodisieren mit Chrom- oder Phosphorsäure erzeugt wurden; c) Oxidschichten, die lediglich dazu vorgesehen sind, das Grundmetall für die nachfolgende Aufbringung organischer Schichten oder die elektrolytische Abscheidung von Metallen vorzubereiten; d) hartanodisierte Schichten, die überwiegend für technische Zwecke verwendet werden, für die Abrieb und Verschleißfestigkeit die primären Eigenschaften sind (siehe ISO 10074).
StatussAtcelts
ICS grupa25.220.20