Projekta Nr.ISO/TR 17055:2002
Nosaukums<p>L'ISO/TR 17055 spécifie une méthode de dosage du silicium dans les aciers par spectrométrie d'émission avec plasma induit par haute fréquence. La méthode est applicable aux teneurs en silicium ayant une fraction massique comprise entre 0,02 % et 5 %.</p> <p>La méthode utilise un étalonnage reposant sur un ajustement très étroit de la matrice des solutions d'étalonnage avec celle de l'échantillon et sur un encadrement étroit des teneurs autour de la concentration approchée en silicium de l'échantillon à analyser. Les concentrations de tous les éléments de l'échantillon doivent donc être connues par approximation. Si les concentrations ne sont pas connues, l'échantillon doit être analysé selon une méthode semi-quantitative.</p>
Reģistrācijas numurs (WIID)28510
Darbības sfēra<p>L'ISO/TR 17055 spécifie une méthode de dosage du silicium dans les aciers par spectrométrie d'émission avec plasma induit par haute fréquence. La méthode est applicable aux teneurs en silicium ayant une fraction massique comprise entre 0,02 % et 5 %.</p> <p>La méthode utilise un étalonnage reposant sur un ajustement très étroit de la matrice des solutions d'étalonnage avec celle de l'échantillon et sur un encadrement étroit des teneurs autour de la concentration approchée en silicium de l'échantillon à analyser. Les concentrations de tous les éléments de l'échantillon doivent donc être connues par approximation. Si les concentrations ne sont pas connues, l'échantillon doit être analysé selon une méthode semi-quantitative.</p>
StatussStandarts spēkā
ICS grupa77.080.20