Projekta Nr.ISO 23216:2021
Nosaukums<p>Le présent document spécifie l'ellipsométrie spectroscopique pour la détermination des propriétés optiques (indice de réfraction <em>n</em> et coefficient d'extinction <em>k</em>) et la classification optique de différent types de films de carbone amorphe dans le plan <em>n</em><span style="font-size: medium;">-</span><em><span style="font-family: Cambria; font-size: medium;">k</span></em><span style="font-size: medium;">.</span></p> <p><span style="font-size: medium;"> </span></p> <p>Il s'applique aux films de carbone amorphe déposés par évaporation ionisée, pulvérisation, dépôt par arc cathodique, dépôt chimique en phase vapeur assisté plasma (PAVCD), par filament chaud, et d'autres techniques.</p> <p>Il ne s'applique pas aux films à base de carbone modifié avec des métaux ou du silicium, aux films de carbone amorphe qui ont un gradient de composition/propriété dans l'épaisseur, aux peintures et aux vernis.</p>
Reģistrācijas numurs (WIID)74875
Darbības sfēra<p>Le présent document spécifie l'ellipsométrie spectroscopique pour la détermination des propriétés optiques (indice de réfraction <em>n</em> et coefficient d'extinction <em>k</em>) et la classification optique de différent types de films de carbone amorphe dans le plan <em>n</em><span style="font-size: medium;">-</span><em><span style="font-family: Cambria; font-size: medium;">k</span></em><span style="font-size: medium;">.</span></p> <p><span style="font-size: medium;"> </span></p> <p>Il s'applique aux films de carbone amorphe déposés par évaporation ionisée, pulvérisation, dépôt par arc cathodique, dépôt chimique en phase vapeur assisté plasma (PAVCD), par filament chaud, et d'autres techniques.</p> <p>Il ne s'applique pas aux films à base de carbone modifié avec des métaux ou du silicium, aux films de carbone amorphe qui ont un gradient de composition/propriété dans l'épaisseur, aux peintures et aux vernis.</p>
StatussStandarts spēkā
ICS grupa25.220.99