Informējam, ka Sistēma pielāgota darbam ar interneta pārlūkprogrammu Internet Explorer (8. un jaunākām versijām) un Mozilla Firefox (3.6 un jaunākām versijām).
Izmantojot citu interneta pārlūkprogrammu, brīdinām, ka Sistēmas funkcionalitāte var tikt traucēta.
<p>This document specifies the test method for measuring the crystalline quality of single-crystal thin film (wafer) using the XRD method with parallel X-ray beam. This document is applicable to all of the single-crystal thin film (wafer) as bulk or epitaxial layer structure.</p>
Reģistrācijas numurs (WIID)
73015
Darbības sfēra
<p>This document specifies the test method for measuring the crystalline quality of single-crystal thin film (wafer) using the XRD method with parallel X-ray beam. This document is applicable to all of the single-crystal thin film (wafer) as bulk or epitaxial layer structure.</p>
