Reģistrācijas numurs (WIID)Projekta Nr.NosaukumsStatuss
77435prEN IEC 62541-7:2025Architecture unifiée OPC - Partie 7: ProfilsAptauja slēgta
77434prEN IEC 62541-8:2024OPC Unified Architecture - Teil 8: Zugriff auf AutomatisierungsdatenAptauja slēgta
77694prEN IEC 63489:2024Base de données - Concepts de données communs pour la fabrication intelligenteAptauja slēgta
68641LVS EN IEC 61326-2-2:2021Mērīšanas, vadības un laboratorijas elektroiekārtas. EMC prasības. 2-2.daļa: Īpašās prasības. Testa konfigurācija, darbības režīmi un veiktspējas kritēriji pārnesamam testa, mērīšanas un pārraudzības aprīkojumam lietošanai zemsprieguma elektroapgādes sistēmās (IEC 61326-2-2:2020)Standarts spēkā
66916LVS EN IEC 61326-1:2021Mērīšanas, vadības un laboratorijas elektroiekārtas. EMC prasības. 1.daļa: Vispārīgas prasības (IEC 61326-1:2020)Standarts spēkā
68570LVS EN IEC 61326-2-5:2021Mērīšanas, vadības un laboratorijas elektroiekārtas. EMC prasības. 2-5.daļa: Īpašās prasības. Testa konfigurācija, darbības režīmi un veiktspējas kritēriji lokālām ierīcēm ar industriālo maģistrāļu saskarnēm saskaņā ar IEC 61784-1 (IEC 61326-2-5:2020)Standarts spēkā
68569LVS EN IEC 61326-2-1:2021Mērīšanas, vadības un laboratorijas elektroiekārtas. EMC prasības. 2-1.daļa: Īpašās prasības. Testa konfigurācija, darbības režīmi un veiktspējas kritēriji jutīgam testa un mērīšanas aprīkojumam lietošanai bez aizsardzības pret EMC (IEC 61326-2-1:2020)Standarts spēkā
46708LVS EN 62439-4:2010Industriālie sakaru tīkli. Automatizētie tīkli ar augstu pieejamību. 4. daļa: Starptīklu redundances protokols (CRP) (IEC 62439-4:2010)Standarts spēkā
66241LVS EN IEC 62832-2:2021Tehnoloģisko procesu mērīšana, vadība un automatizācija. Digitālās rūpnīcas pamatstruktūra. 2.daļa: Modeļa elementi (IEC 62832-2:2020)Standarts spēkā
70784LVS EN IEC 62832-1:2021Tehnoloģisko procesu mērīšana, vadība un automatizācija. Digitālās rūpnīcas pamatstruktūra. 1.daļa: Vispārīgie principi (IEC 62832-1:2020)Standarts spēkā
Attēlo no 1181. līdz 1190. no pavisam 1706 ieraksta(-iem).