Reģistrācijas numurs (WIID)Projekta Nr.NosaukumsStatuss
84634ISO/NP 16538Stationary source emissions — Determination of volume flowrate and concentration of fluorinated compounds (FCs) and N2O in ducts of semiconductor and display processesIzstrādē
29718ISO/PWI 7935Révision de l'ISO 7935:1992Izstrādē
74955ISO/NP 23227Stationary source emissions — Measurement method for volumetric flow of Non-CO2 GHG(CF4, NF3, SF6, N2O) in semiconductor and display industriesIzstrādē
85573ISO/NP 16538Stationary source emissions — Determination of volume flowrate and concentration of fluorinated compounds (FCs) and N2O in ducts of semiconductor and display processesIzstrādē
41358ISO/DIS 23210-1Stationary source emissions — Determination of PM10/PM2,5 mass concentration in flue gas — Part 1: Measurement at low concentrations by use of impactorsIzstrādē
54333ISO/NP 13858Émissions de sources fixes — Détermination de la concentration massique de composés gazeux de bore dans les fuméesIzstrādē
92163ISO/CD 15713Émissions de sources fixes — Échantillonnage et détermination de la teneur en fluorure gazeuxIzstrādē
66038ISO/DIS 19694-1Émissions de sources fixes — Détermination des émissions des gaz à effet de serre dans les industries à forte intensité énergétique — Partie 1: Aspects générauxIzstrādē
73184ISO/PWI 14694-6Émissions de sources fixes — Détermination des émissions des gaz à effet de serre dans les industries à forte intensité énergétique — Partie 6: Industri des ferro-alliagesIzstrādē
35337ISO/WD 20222Stationary source emissions — Performance characteristics of automated measuring methodsIzstrādē
Attēlo no 11. līdz 20. no pavisam 83 ieraksta(-iem).