ISO/TC 172/SC 9
Reģistrācijas numurs (WIID) | Projekta Nr. | Nosaukums | Statuss |
---|---|---|---|
19232 | ISO 11254-1:2000 | Lasers et équipements associés aux lasers — Détermination du seuil d'endommagement provoqué par laser sur les surfaces optiques — Partie 1: Essai 1 sur 1 | Atcelts |
35640 | ISO 13695:2004 | Optics and photonics — Lasers and laser-related equipment — Test methods for the spectral characteristics of lasers | Atcelts |
2527 | ISO 11149:1997 | Optique et instruments d'optique — Lasers et équipements associés aux lasers — Connecteurs pour fibres optiques pour les applications laser autres que télécommunication | Atcelts |
21142 | ISO 11254-2:2001 | Lasers et équipements associés aux lasers — Détermination du seuil d'endommagement provoqué par laser sur les surfaces optiques — Partie 2: Essai S sur 1 | Atcelts |
19594 | ISO 11670:1999 | Lasers and laser-related equipment — Test methods for laser beam parameters — Beam positional stability | Atcelts |
36641 | ISO 14880-3:2006 | Optics and photonics — Microlens arrays — Part 3: Test methods for optical properties other than wavefront aberrations | Atcelts |
37045 | ISO 24013:2006 | Optique et photonique — Lasers et équipements associés aux lasers — Mesurage du retard de phase des composants optiques pour le rayonnement laser polarisé | Atcelts |
30654 | ISO 11553-1:2005 | Safety of machinery — Laser processing machines — Part 1: General safety requirements | Atcelts |
64144 | ISO 14880-1:2016 | Optics and photonics — Microlens arrays — Part 1: Vocabulary and general properties | Atcelts |
33625 | ISO 11146-1:2005 | Lasers et équipements associés aux lasers — Méthodes d'essai des largeurs du faisceau, angles de divergence et facteurs de limite de diffraction — Partie 1: Faisceaux stigmatiques et astigmatiques simples | Atcelts |
Attēlo no 61. līdz 70. no pavisam 146 ieraksta(-iem).