71.040.40 Ķīmiskās analīzes

Surface chemical analysis Auger electron spectroscopy and X-ray photoelectron spectroscopy Methods used to determine peak intensities and information required when reporting results

Chemical analysis of refractories containing alumina, zirconia and silica Refractories containing 5 percent to 45 percent of ZrO2 (alternative to the X-ray fluorescence method)

Chemical analysis of refractories containing alumina, zirconia, and silica Refractories containing 5 percent to 45 percent of ZrO2 (alternative to the X-ray fluorescence method)

Chemical analysis of refractories containing alumina, zirconia, and silica Refractories containing 5 percent to 45 percent of ZrO2 (alternative to the X-ray fluorescence method)

Alumīnija oksīdu, cirkonija oksīdu un silīcija dioksīdu saturošo ugunsizturīgo materiālu ķīmiskā analīze. Ugunsizturīgie materiāli ar ZrO2 saturu 5 % līdz 45 % (metode, kurā neizmanto rentgenfluorescenci). 1. daļa: Aparāti, reaģenti un šķīdināšana

Alumīnija oksīdu, cirkonija oksīdu un silīcija dioksīdu saturošo ugunsizturīgo materiālu ķīmiskā analīze. Ugunsizturīgie materiāli ar ZrO2 saturu 5 % līdz 45 % (metode, kurā neizmanto rentgenfluorescenci). 2. daļa: Mitrā ķīmiskā analīze

Alumīnija oksīdu, cirkonija oksīdu un silīcija dioksīdu saturošo ugunsizturīgo materiālu ķīmiskā analīze. Ugunsizturīgie materiāli ar ZrO22 saturu 5 % līdz 45 % (metode, kurā neizmanto rentgenfluorescenci). 3. daļa: Liesmas atomabsorbcijas spektrofotometrija (FAAS) un induktīvi saistītas plazmas emisijas spektrometrija (ICP-AES)

Surface chemical analysis -- Scanning probe microscopy -- Procedure for the determination of elastic moduli for compliant materials using atomic force microscope and the two-point JKR method

Surface chemical analysis X-ray photoelectron and Auger electron spectrometers Linearity of intensity scale

Surface chemical analysis Information format for static secondary-ion mass spectrometry

Surface chemical analysis Depth profiling Measurement of sputtering rate: mesh-replica method using a mechanical stylus profilometer

Surface chemical analysis Secondary ion mass spectrometry Method for determining yield volume in argon cluster sputter depth profiling of organic materials